2018年12月12日(水)~14日(金)の3日間、東京ビッグサイトで開催中の「SEMICON Japan 2018」。
半導体製造の全工程の製造技術・装置・材料をカバーする半導体製造装置・材料の展示会です。今回は国内外800社近くが出展、70,000人もの来場者数を見込んでいます(同時開催分含む)。
本ページでは速報取材レポートをお届けします。見どころや今年のトレンドをぜひご覧ください!
速報取材レポート掲載内容
ATENジャパン株式会社
離れたオフィスからリモートコンソールを介して、半導体製造装置を
管理・制御!リモートアクセスユニット『KVM over IP CN8000A』
コネクテックジャパン株式会社
『Monster PAC』技術のさまざまな用途の紹介と、同技術に基づく
工程や設備を激減させるデスクトップファクトリーのデモ展示
株式会社ディスコ
コンベアレスに進化した『並列加工搬送システム』『KABRA』、
プロセス全自動化システムの『KABURA ! zen』などを披露
エスペック株式会社
1台で4つの特性試験ができる!
特許7件取得の充放電評価システム『アドバンストバッテリーテスター』
三菱電機株式会社
高硬度SiC等の素材を多数枚同時にスライス加工できる放電加工技術と、
それを使用したマルチワイヤ放電加工機『D-slice』
株式会社東京精密
自社のダイシング装置の稼働監視・制御・分析を行うシステム
『Saw-NET / Saw-NET pro』を展示
株式会社三笠製作所
大電流を要す装置において課題となる「大型化」という課題を
日本未導入の新素材を用いることで解決する制御盤
ローツェ株式会社
前工程から中工程まで対応可能なPLPパネル搬送ロボット『RR759』、
自社開発センサを活用した『高度な異常予測保全システム』
Levitronix Japan株式会社
非接触で機械的な摩擦を一切生じない
パーティクル・フリーのポンプ『ベアリングレスポンプ』など
株式会社KOKUSAI ELECTRIC
300mm向け装置を中心とした製品ラインアップやIoT向け200mm
装置に加えて、生産設備安定稼働のためのサービス『Safety Eyes』
株式会社ニコン
光干渉顕微鏡システム 『BW-M7000』などを展示
出展製品
前工程
- 設計工程・設計ツール
- ウェーハ製造工程
- ウェーハプロセス工程
部品・材料
- プロセス材料
- テスト材料
- 組み立て材料
- ガス・ケミカルと固体材料
- 基板
- パーツ・サブシステム
後工程・総合
- 組立工程
- 試験・検査工程
- 組立・搬送装置用関連機器
- 環境関連装置
- 各種ソフトウェア・サービス
スマートアプリケーションの要素技術
- 半導体デバイス(センサー/MEMS、パワーデバイス)
- フレキシブルハイブリッドエレクトロニクス(FHE)
- ネットワーク/ゲートウェイ
- IoTプラットフォーム/ソフトウェア/セキュリティ
スマートアプリケーション製品・技術
- スマートマニュファクチャリング
- 自動車/カーエレクトロニクス
- ウェアラブル機器/ヘルスケア機器
- ロボット
- コンシューマエレクトロニクス
出展企業一覧
アクリビスシステムズジャパン株式会社、ASIATICFIBERCORPORATION、AUROSTechnology,Inc.、BISTel、BMTCO.,LTD.、BrewerScience,Inc.、BriskHeatCorporation、CISCorporation、COMATechnologyCo.,Ltd.、CoreFlowLtd.、CRGEMSSuperabrasivesCo.,Ltd.、CyberOpticsCorporation、DaeshinMC、EFABInternationalTechnologyCo.,Ltd.、EOTECHNICSCo.,Ltd.、ERSElectronicGmbH、E-TechSolution、イーサーキャットテクノロジーグループ、EvatecAG、GEMUGebr.MuellerGmbH&Co.KG、GILLSONENTERPRISECO.,LTD、HuberAG、HUZHOUOPALQUARTZTECHCO.,LTD、InnoGlobalInc.、JiangsuPacificQuartzCo,.Ltd、JiangsuQinxiNewMaterialLtd.Co、JiangyindowellresourcerecycletechnologyCo,.Ltd、JinzhouEastQuartzMaterialCo.,Ltd.、J-Solution、KINGLAIHYGIENICMATERIALSCO.LTD.、KLA-TencorCorporation、KunshanByeMacromoleculeMaterialCo.,Ltd.、LorangerInternationalCorporation、MetariverTechnologyCo,Ltd、MoretecMagnetic&Electronic(shanghai)Co.LTD、NEXTIN,Inc.、NihonPrecisionTechnologySdnBhd、NyeLubricants、PrecisionPolymerEngineeringLtd.、ProfilexPlasticTechnology(ZhuhaiFTZ)Co.,Ltd、PSKInc.、PurificationEquipmentResearchInstituteofCISC、QuantumGlobalTechnologies,LLC.DBAQuantumClean,ChemTrace、RaeschQuarz(Germany)GmbH、Reid-AshmanManufacturing,Inc.、SAMYOUNGCUTTINGTOOLS、SealinkCorp.、SETS、SinoNitrideSemiconductorCo.,Ltd.、SMGCo.Ltd.、SurplusGLOBALInc.、SuzhouBetpakNewMaterialTechnologyCo.,Ltd、SVCSProcessInnovations.r.o.、TSIIncorporated、UniromElectronicsLTD、WhiteKnightFluidHandlingInc.、WOOAMSUPERPOLYMERCO.,LTD.、XiamenHongluTungstenMolybdenumIndustryCo.,Ltd、YoleDeveloppement、ZotefoamsOperationsLimited、株式会社アールデック、株式会社アイエイアイ、アクテス京三株式会社、旭化成株式会社、株式会社旭製作所、旭ダイヤモンド工業株式会社、アサヒ・テクノソリューションズ株式会社、株式会社アシストナビ、株式会社アスカインデックス、アスザック株式会社、アステック株式会社、USTRON株式会社、株式会社アドテックプラズマテクノロジー、アドバンスエレクトリックジャパン株式会社、アドバンスドエナジージャパン株式会社、株式会社アドバンスト・キー・テクノロジー研究所、株式会社アドバンテスト、アドバンテック株式会社、アペックス株式会社、株式会社天谷製作所、アユミ工業株式会社、アル株式会社、株式会社アルバック、アルバックテクノ株式会社、アローズエンジニアリング株式会社、安立計器株式会社、イーヴィグループジャパン株式会社、ナノサイエンス株式会社、イーグル工業株式会社、ECIJAPAN株式会社、井嶋金銀工業株式会社、伊藤忠テクノソリューションズ株式会社、イノベーションサイエンス株式会社、イノベーションリサーチ株式会社、茨城大学半導体研究室、入江工研株式会社、株式会社イワキ、株式会社インターテック販売、株式会社インテクノス・ジャパン、株式会社インテリンク、インフィコン株式会社、VAT株式会社、株式会社ウエストワン、ウシオ電機株式会社、エイチエスティ・ビジョン株式会社、株式会社エイチ・ティー・エル、ATENジャパン株式会社、エーサット株式会社、株式会社エー・シー・イー、一般社団法人SiCアライアンス、株式会社エス・イー・アール、エスオーエル株式会社、SGLカーボンジャパン株式会社、株式会社SDK、エステルエキュボ株式会社、SPPテクノロジーズ株式会社、エドワーズ、エナジーサポート株式会社、株式会社エニドア、エヌ・エス・エス株式会社、エヌビーエス株式会社、エヌピイエス株式会社、株式会社荏原製作所、株式会社エムアイティ、エムエス機器株式会社、株式会社エリオニクス、株式会社エンプラス半導体機器、OEMGroupJapan合同会社、株式会社大阪真空機器製作所、大阪大学産学共創本部、大塚電子株式会社、大野ベロー工業株式会社、株式会社岡崎製作所、株式会社岡本工作機械製作所、沖縄県庁、雄山、オランダハイテクパビリオン、株式会社オンテック、金沢機工株式会社、株式会社カナメックス、株式会社兼松KGK、兼松PWS株式会社、株式会社FLOSFIA、川崎重工業株式会社、GaN研究コンソーシアム、カンケンテクノ株式会社、関西電子ビーム株式会社、株式会社喜多製作所、株式会社キッツエスシーティー、株式会社木村洋行、キャニオン、九州大学、株式会社京三製作所、株式会社協同インターナショナル、株式会社近畿分析センター、金星ゴム工業株式会社、株式会社クォークテクノロジー、クラボウ株式会社、株式会社クリーンアクト、株式会社クリエイティブテクノロジー、株式会社クレステック、株式会社グローウィル、株式会社グローバルネット、株式会社グローブ・テック、群馬大学小林春夫研究室、KSMCO.,LTD、有限会社ケイ・エム技研、ケイエルブイ株式会社、株式会社工苑、神津精機株式会社、株式会社神戸設計ルーム、光洋サーモシステム株式会社、HangzhouCobetterFiltrationEquipmentCo.,Ltd.、株式会社日立国際電気、株式会社コシブ精密、株式会社コスモ・テック、コネクテックジャパン株式会社、コネクト、コフロック株式会社、株式会社コベルコ科研、株式会社コムクラフト、サーパス工業株式会社、SCIVAX株式会社、埼玉大学池野研究室、材料科学技術振興財団、坂口電熱株式会社、株式会社佐竹製作所、サニー・トレーディング株式会社、サムコ株式会社、株式会社サンエイ、国立研究開発法人産業技術総合研究所、サンゴバン株式会社、株式会社三明、株式会社三友製作所、CKD株式会社、CBC株式会社、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン株式会社、JA三井リース株式会社、JSR株式会社、JSWアフティ株式会社、株式会社ジェイテクト、株式会社ジェーイーエル、株式会社シグマシステム、シチズンファインデバイス株式会社、芝浦メカトロニクス株式会社、株式会社シバソク、株式会社島津製作所、ジャパンクリエイト株式会社、ShanghaiHuasongEnterprise、シュマルツ株式会社、信越ポリマー株式会社、株式会社新川、新光電気工業株式会社、新コスモス電機株式会社、新日本空調株式会社、シンフォニアテクノロジー株式会社、日本スウェージロックFST株式会社、株式会社SCREENクリエイティブコミュニケーションズ、株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ、株式会社ストラテジック、株式会社スパンドニクス、スピードファム株式会社、スペクトリス株式会社、住友重機械イオンテクノロジー株式会社、株式会社精研、株式会社清和光学製作所、セーフテクノ株式会社、株式会社SEBACS、センサーコントロールズ株式会社、株式会社ソニック、ソフトワークス株式会社、株式会社ソルトン、株式会社ダイイチコンポーネンツ、株式会社第五電子工業、大成技研株式会社、大同特殊鋼株式会社、株式会社大日本科研、太陽ホールディングス株式会社、株式会社高田工業所、高千穂商事株式会社、タキゲン製造株式会社、株式会社ダルトン、中央電子株式会社、チューリップ株式会社、千代田交易株式会社、ツクモ工学株式会社、株式会社ティアンドティ、TIPcomposite株式会社、株式会社TMH、DKSHジャパン株式会社、TDK株式会社、THK株式会社、テクトロニクス社、ケースレーインスツルメンツ社、DMカードジャパン株式会社、帝人株式会社、株式会社ディスコ、株式会社D-process、株式会社テクネ計測、株式会社テクノス、株式会社テクメイション、テスプロ株式会社、テックインサイツジャパン株式会社、株式会社テムテック研究所、テュフラインランド・ジャパン株式会社、有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド、デロイト トーマツ合同会社、株式会社東京インスツルメンツ、株式会社東京ウエルズ、東京エレクトロン株式会社、東京応化工業株式会社、株式会社東京技術研究所、東京計装株式会社、株式会社東京精密、株式会社東京ダイヤモンド工具製作所、東京都立産業技術高等専門学校深谷研究室、東銀リース株式会社、東フロコーポレーション株式会社、東邦化研株式会社、東朋テクノロジー株式会社、東邦電子株式会社、東北マイクロテック株式会社、東洋システム株式会社、東横化学株式会社、東レエンジニアリング株式会社、東レ・プレシジョン株式会社、株式会社東レリサーチセンター、東海大学桑畑研究室、特許機器株式会社、株式会社ドックワイラージャパン、株式会社巴商会、トリニティー株式会社、ナイス株式会社、ナガセテクノエンジニアリング株式会社、ナノ・ソルテック株式会社、ナノメトリクス・ジャパン株式会社、ナプソン株式会社、新潟大学安部・寒川研究室、株式会社ニコン、株式会社西村ケミテック、日新イオン機器株式会社、日新ネオ株式会社、日精株式会社、日星産業株式会社、ニッタ株式会社、日鉄住金ステンレス鋼管株式会社、日邦プレシジョン株式会社、日本アスコ株式会社、日本精線株式会社、日本電気硝子株式会社、日本トムソン株式会社、日本ピュアテック株式会社、日本ベアリング株式会社、日本エアーテック株式会社、日本エリコンバルザース株式会社、日本カノマックス株式会社、日本高周波株式会社、日本コーティングセンター株式会社、日本セミラボ株式会社、日本電産リード株式会社、日本電子株式会社、日本電子材料株式会社、日本ナショナルインスツルメンツ株式会社、日本発条株式会社、一般社団法人日本半導体製造装置協会、日本フェンオール株式会社、日本ブッシュ株式会社、日本分光日本分光、日本ポール株式会社、日本マーテック株式会社、株式会社日本マイクロニクス、日本無機株式会社、株式会社日本レーザー、株式会社ニューフレアテクノロジー、布目電機株式会社、株式会社ノダRFテクノロジーズ、野村マイクロ・サイエンス株式会社、株式会社ノリタケカンパニーリミテド、パーク・システムズ・ジャパン株式会社、株式会社ハーモテック、パール工業株式会社、ハイウィン株式会社、株式会社バイコウスキージャパン、ハイソル株式会社、株式会社ハイテック・システムズ、ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社、ハイデンハイン株式会社、伯東株式会社、パナソニックスマートファクトリーソリューションズ株式会社、浜松ホトニクス株式会社、株式会社ハムレット・モトヤマ・ジャパン、バリューインパクト有限会社、株式会社半導体エネルギー研究所、P.R.A.、株式会社ビー・アンド・プラス、日本インテグリス株式会社、株式会社ピーエムティー、株式会社ビームセンス、PICOSUNJAPAN株式会社、日立化成株式会社、日立キャピタル株式会社、日立造船株式会社、日立ハイテクノロジーズ株式会社、ヒメジ理化株式会社、株式会社ピュアロンジャパン、株式会社ヒューブレイン、平田機工株式会社、株式会社ヒロテック、ファーストゲート株式会社、ファインネクス株式会社、ファスフォードテクノロジ株式会社、株式会社フィジックステクノロジー、株式会社ブイテックス、フィルメトリクス株式会社、株式会社フェローテックホールディングス、株式会社PhotoElectronSoul、株式会社フジキン、藤倉ゴム工業株式会社、株式会社プラムファイブ、株式会社PreferredNetworks、ブルカー・エイエックスエス、ブルックス・ジャパン株式会社、株式会社プロソルジャパン、株式会社ベクトルジャパン、法政大学イオンビーム工学研究所、ボールウェーブ株式会社、北海道大学工学研究院材料科学部門、株式会社堀場アドバンスドテクノ、株式会社堀場エステック、株式会社堀場製作所、本多電子株式会社、マーポス株式会社、マイクロテック株式会社、マイクロテック・ラボラトリー株式会社、マイクロモジュールテクノロジー株式会社、株式会社マグネスケール、マスターコントロール株式会社、松尾産業株式会社、丸文株式会社、株式会社三笠製作所、ミカドテクノス株式会社、ミクロエース株式会社、みずほ情報総研株式会社、三井住友ファイナンス&リース株式会社、三菱重工工作機械株式会社、三菱電機株式会社、三菱UFJリース株式会社、一般社団法人ミニマルファブ推進機構、MILAEBOJAPAN、武蔵エンジニアリング株式会社、村田機械株式会社、株式会社明電舎、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業微細加工プラットフォーム、八光産業株式会社、株式会社八洲測器、株式会社安川電機、山口大学、株式会社ヤマナカゴーキン、株式会社山梨技術工房、山梨大学パワー半導体デバイス研究室、山村フォトニクス株式会社、ユアサシステム機器株式会社、株式会社ユタカ、株式会社ユニテクノ、横河ソリューションサービス株式会社、横浜国立大学大矢剛嗣研究室、株式会社吉岡精工、淀川ヒューテック株式会社、株式会社ランドマークテクノロジー、リオン株式会社、株式会社リガク、理化工業株式会社、理研計器株式会社、リソテックジャパン株式会社、リンテック株式会社、株式会社レイテックスオプティマ、レイデント工業株式会社、レヴィトロニクスジャパン株式会社、レーザーテック株式会社、レニショー株式会社、ローツェ株式会社、株式会社ロゼッタ、六甲電子株式会社、ワイエイシイメカトロニクス株式会社、ワッティー株式会社